Řízení porovitosti u plazmově stříkaných materiálů
|
ID projektu: | OC 515.10 | Poskytovatel: | Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy | Období: | 01.01.1995 - 31.12.1997 | Příjemce - koordinátor | Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i., Praha | Hlavní řešitel: | Ing. Dr. Pavel Chráska, DrSc. | Spolupříjemce / hl. řešitel(é): | Vysoká škola chemicko-technologická v Praze -- Ing. Libor Mastný, CSc. Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrská, České vysoké učení technické, Praha -- Ing. Jan Siegl, CSc.
| Cíle projektu: Plazmové stříkání je jednou z nejrychleji se rozvíjejících metod vytváření ochranných vrstev. Ústav fyziky plazmatu AV ČR rozvijí světově unikátní zařízení, vyvinuté v ČR, kterým je vodou stabilizovaný plazmatron. Jeho vysoký stříkací výkon je využíván i k přípravě zvláštních keramických prvků. Stříkané keramické materiály vždy vykazují jisté procento porů, které je pro některé účely nevhodné. Cílem projektu je řídit stupeň porovitosti, a to jednak volbou stříkacích parametrů a dále dodatečným zpracováním. Budou zkoušeny různé metody dodatečného zpracování (impregnace polymery, kovy, hipování). Stříkané i dodatečné upravené materiály budou komplexně charakterizovány z hlediska struktury i vybraných vlastností. | |