Řízení porovitosti u plazmově stříkaných materiálů
ID projektu:OC 515.10
Poskytovatel:Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Období:01.01.1995 - 31.12.1997
Příjemce - koordinátorÚstav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i., Praha
Hlavní řešitel:Ing. Dr. Pavel Chráska, DrSc.
Spolupříjemce / hl. řešitel(é):Vysoká škola chemicko-technologická v Praze -- Ing. Libor Mastný, CSc.
Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrská, České vysoké učení technické, Praha -- Ing. Jan Siegl, CSc.

Cíle projektu: Plazmové stříkání je jednou z nejrychleji se rozvíjejících metod vytváření ochranných vrstev. Ústav fyziky plazmatu AV ČR rozvijí světově unikátní zařízení, vyvinuté v ČR, kterým je vodou stabilizovaný plazmatron. Jeho vysoký stříkací výkon je využíván i k přípravě zvláštních keramických prvků. Stříkané keramické materiály vždy vykazují jisté procento porů, které je pro některé účely nevhodné. Cílem projektu je řídit stupeň porovitosti, a to jednak volbou stříkacích parametrů a dále dodatečným zpracováním. Budou zkoušeny různé metody dodatečného zpracování (impregnace polymery, kovy, hipování). Stříkané i dodatečné upravené materiály budou komplexně charakterizovány z hlediska struktury i vybraných vlastností.